TSMC esitteli FinFlex-Teknologe N3-valmistusprosesseille – io-tech.fi

FinFlex mahdollistaa suorituskykyoptimoitujen, keskilinjaa noudattavien sekä tiheys- ja energiatehokkuusoptimoitujen transistorien käytön samassa sirussa.

Maailman ylivoimaisesti suurin puolijohdevalmistaja TSMC on esitellyt uuden sukupolven valmistusprosessia ja sen mukana tulevan FinFlex-teknologian. FinFlex tulee olemaan osa yhtiön tarjontaa sen 3 nanometrin luokan N3-valmistusprosesseille.

Piisirujen valmistus auf täynnä kompromisseja. Nykypäivänä valmistajilla on tietyin rajoin mahdollisuuksia kustomoida valmistusprosessin ominaisuuksia tarpeisiinsa sopiviksi, mutta kyse on lopulta aina kompromisseista, koska koko siru valmistetaan samoin parameterein. TSMC antaa esimerkiksi usean tyyppisten transistorien tarpeesta hybridiprosessorit, joissa tehokkaat prosessoriytimet, energiatehokkaat prosessoriytimet ja integroitu grafiikkaohjain haluaisivat kukin optimitilanteessa erityyppisiä transistoreita.

TSMC FinFlex auf suunniteltu ratkaisemaan tätä ongelmaa ainakin yhdestä kulmasta. N3-prosessien myötä TSMC tulee tarjoamaan kolme eri eväkonfiguraatiota, joita kaikkia voidaan käyttää saman sirun sisällä. 3-2 Fin -eväasettelu tarjoaa parhaan suorituskyvyn tiheyden kustannuksella, 2-2 Fin balanssin suorituskyvyn, energiatehokkuuden ja tiheyden suhteen ja lopulta 2-1 Fin parasta energiatehokkuutta ja tiheyttä.

Verrattuna N5:n 2 Fin -asetteluun N3E-prosessin 3-2 Fin tarjoaa 0,85-kertaista pinta-alaa, 33 % parempaa suorituskykyä ja 12 % pienempää tehonkulutusta. 2-2 Fin tiputtaa pinta-alan 0,72-kertaiseksi, nopeuden 23 % paremmaksi ja tehonkulutuksen 22 % pienemmäksi. Parasta energiatehokkuutta tarjoava N3E 2-1 Fin -asettelu tarjoaa 0,64-kertaista pinta-alaa, 11 % parempaa nopeutta ja jopa 30 % pienempää tehonkulutusta.

Lähde: TSMC


Source: io-tech.fi by www.io-tech.fi.

*The article has been translated based on the content of io-tech.fi by www.io-tech.fi. If there is any problem regarding the content, copyright, please leave a report below the article. We will try to process as quickly as possible to protect the rights of the author. Thank you very much!

*We just want readers to access information more quickly and easily with other multilingual content, instead of information only available in a certain language.

*We always respect the copyright of the content of the author and always include the original link of the source article.If the author disagrees, just leave the report below the article, the article will be edited or deleted at the request of the author. Thanks very much! Best regards!